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快速減少裝載鎖和傳送室中的顆粒和排氣時間。FV50D XL 擴散器可大限度地縮短加載鎖定排氣周期時間,從而可靠地提高系統(tǒng)吞吐量。這種二代擴散器可以承受更高的工作壓力(60 psig),額定循環(huán)次數(shù)為 100 萬次,從而大大提高了性能,降低了擁有成本。
我們的 Chambergard 系列產品可快速向大氣排氣,而不會干擾或增加腔室內晶片的顆粒。它們將擴散器的流動特性與過濾器相結合,提高了效率和產量。憑借我們的全球基礎設施,我們可以在全球范圍內提供 Chambergard 快速排氣擴散器,以滿足您的需求。
額定循環(huán)次數(shù)為 1,000,000 次,可在更高的入口壓力下運行
在緊湊型擴散器中采用燒結鎳專利技術,可在所有應用中提供高性能
從輸入氣體中去除大于 0.0015 µm 的顆粒,大限度地減少晶片缺陷
易于安裝/改裝到現(xiàn)有工具中,大限度地減少停機時間
訂購編號CG2 NDD 050R2:Chambergard FV50D XL
產地:美國
擴散元件:燒結鎳膜過濾器
外殼材質:316 L 不銹鋼
內表面光潔度:≤ 32 μin Ra
O 形圈材料:氟橡膠
尺寸:2-229
溝槽內徑:59.9 mm(2.36 英寸)
溝槽外徑:67.9 mm(2.67 英寸)
溝槽深度:2.6 mm(0.10 英寸)
入口連接方式:1⁄4 英寸 VCR 兼容外螺紋墊圈密封接頭
出口連接方式:ISO NW50 隔板安裝,兼容標準 ISO 隔板夾
下游清潔度:清潔度小于 0.03 顆粒/L(<1 顆粒/ft3) > 0.01 μm 額定流量
去除率:≥ 0.0015 μm
出口為真空時的Max入口壓力:4 巴(60 psig)
Max壓差:5 巴(75 psid)
Max工作溫度:100 °C (212 °F) (帶 O 形圈);400°C (752°F) (不帶 O 形圈
保修期:2 年
將氣體快速排放到大氣中,不會干擾腔室內的晶片或增加晶片顆粒
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