ENTEGRIS刷PVP0EF3R1

Planarcore 的PVA 刷設(shè)計(jì)用于在 CMP 后晶圓清潔應(yīng)用中提供高性能和晶圓間的一致性。自創(chuàng)的穿芯模塑技術(shù)可使 PVA 與刷芯適配粘合，而不像標(biāo)準(zhǔn) PVA 產(chǎn)品那樣僅通過摩擦安裝到刷芯上。一次性 Planarcore PVA 刷的尺寸穩(wěn)定性還消除了與獨(dú)立和預(yù)安裝 PVA 產(chǎn)品相關(guān)的不確定性。由于 Entegris 的 Planarcore PVA 刷性能高，PVA 滑動(dòng)、膨脹和同心度下降不再是問題。

減少工具停機(jī)時(shí)間：模壓穿芯技術(shù)確保每次都能適配貼合。無需擔(dān)心操作錯(cuò)誤或不一致。由于刷與刷之間的尺寸穩(wěn)定性和同心度不會(huì)發(fā)生變化，因此間隙處理更快、更容易。從頭部晶片到尾部晶片，Planarcore 刷子和間隙都保持不變，確保了工藝的穩(wěn)定性。Planarcore 電刷制造過程中的有效清潔流程縮短了晶圓沖洗和電刷磨合時(shí)間。更快的 CMP 工具啟動(dòng)可提高產(chǎn)量。

減少晶片上的缺陷：更清潔的 PVA、尺寸一致性和流量均衡可減少晶圓上的顆粒數(shù)，從而實(shí)現(xiàn)業(yè)內(nèi)一致的晶圓性能。

將整個(gè) Planarcore 刷（包括刷芯）浸沒在 1 升 18 MΩ 去離子水中并擠壓，以確保任何可能的污染都能很好地分布。然后用離子色譜法提取殘留的去離子水。

高純度 PVA

通過模芯結(jié)構(gòu)成型

消除對(duì)齊和間隙問題，提高系統(tǒng)產(chǎn)量

閉模技術(shù)

減少工具停機(jī)時(shí)間

減少晶片上的缺陷

PVP1ARXR1：Planarcore AMAT Reflexion PP 鐵芯，H₂O₂

PVP1AMMR1：Planarcore AMAT Mirra Mesa PP 內(nèi)核，H₂O₂

PVP0ARXR1：Planarcore AMAT Reflexion PP 內(nèi)核，NH₄OH

PVP0AMMR1：Planarcore AMAT Mirra Mesa PP-核，NH₄OH

產(chǎn)地：美國

芯材/邊材結(jié)構(gòu)材料：全聚丙烯結(jié)構(gòu)

刷子結(jié)構(gòu)材料：聚乙烯醇（PVA）

防腐劑：0.5 % H₂O₂ 或 NH₄OH

產(chǎn)品清潔度：

氟化物：F-，< 0.50 ppm（百萬分之一）

氯化物：Cl-，< 0.75 ppm

硝酸鹽：NO₃-，< 0.50 ppm

磷酸鹽：PO₄^3-，<0.50 ppm

硫酸鹽：SO₄^2-，<0.50 ppm

鋰：Li+，< 0.10 ppm

鈉：Na+，< 0.50 ppm

鉀：K+，< 0.80 ppm

鎂：Mg²⁺，< 0.20 ppm

鈣：Ca²⁺，<0.50 ppm

外徑尺寸：70 mm ±1.0 mm

同心度尺寸：< 0.76 mm（0.03 英寸）

PVA 典型特性：

30 % 壓縮應(yīng)力：90 g/cm²

孔隙率：87-91 %

吸水率：700-1100 重量百分比

孔徑：70-250 μm（通過 SEM 掃描儀檢測(cè)）

PVA 刷的應(yīng)用：后 CMP