當(dāng)前所在位置: 首頁 > 產(chǎn)品首頁 >檢測、測量 、自動化、工業(yè)IT >檢查和檢測 >有限元顯微鏡/X光顯微鏡/電子顯微鏡 >ALPhANOV雙激光斷層注入顯微鏡D-LMS
相關(guān)產(chǎn)品
產(chǎn)品介紹
用于雙激光故障注入的 D-LMS 顯微鏡站是一個平臺，允許獨(dú)立聚焦和掃描兩個激光點(diǎn)，用于集成電路的評估。雙點(diǎn)注射工藝的理想選擇，它提供了所有空間和時間的靈活性，可以通過背面分析電路
性能特點(diǎn)
集成電路評估雙激光站(均通過顯微鏡點(diǎn))
背面激光故障注入的理想選擇
具有高分辨率物鏡的1米以下單模激光光斑尺寸
兩個激光光斑都具有完全獨(dú)立的時間和空間調(diào)制
通過數(shù)百米的硅來觀察集成電路路徑上的激光點(diǎn)的照相機(jī)
高再現(xiàn)性和高分辨率激光光斑位移
包括三個阿爾法諾夫激光模塊
可選功能與配件
光學(xué)鏡頭技術(shù)
光電發(fā)射套件
熱激光刺激套件
通過CE認(rèn)證的激光外殼完成自動設(shè)置
高分辨率目標(biāo)
技術(shù)參數(shù)
單模光纖激光器
|
|
PDM+/PDM+ HP |
PDM4+ and PDM4+ HP |
|
脈沖持續(xù)時間 |
從1.5納秒到連續(xù)波 |
從1.5納秒到連續(xù)波 |
|
峰值功率 |
高達(dá)3.2瓦 |
高達(dá)10瓦 |
|
波長 |
980納米；1064牛米 |
980納米；1064牛米 |
|
重復(fù)率 |
從單發(fā)到250兆赫 |
從單發(fā)到250兆赫 |
|
命令接口 |
TTL/LVTTL /軟件& dlls |
TTL/LVTTL /軟件& dlls |
|
光束質(zhì)量 |
單模 |
單模 |
InGaAs 紅外相機(jī)
|
Captor |
640x512 µm |
|
動態(tài)量程 |
140 dB |
|
接口 |
USB(包含軟件) |
電學(xué)
|
電壓 |
220 V/110 V |
|
電流 |
16 A |
津公網(wǎng)安備12010102000946號
